半导体产业对印刷精度要求极高,硅片感光胶印刷机更是核心装备之一。欧可达精密机械针对晶圆制造需求,开发了Wafer厚膜CCD丝印机及Wafer真空吸气网印机。设备采用全封闭洁净设计,配合高精度CCD视觉定位系统,确保感光胶在硅片上的涂布厚度均匀、边缘整齐。欧可达以过硬的技术实力,为国内半导体企业提供国产替代方案,推动产业链自主可控。
半导体晶圆制造是当今世界最精密的工业制造过程,其中光刻与涂胶环节对设备的洁净度、对准精度及涂布均匀性有着近乎苛刻的要求。长期以来,高端的Wafer丝印设备被国外厂商垄断,不仅价格昂贵,且交货周期长、售后响应慢,严重制约了国内半导体产业的发展。欧可达精密机械迎难而上,集中研发力量攻关半导体印刷核心技术,成功推出了具有自主知识产权的硅片感光胶印刷机。
该系列设备专为8英寸及12英寸晶圆设计,采用了高等级的百级洁净腔体设计,配合FFU风机过滤单元,确保印刷环境内的颗粒物数量降至最低。在涂布工艺上,设备采用了先进的真空吸气网印技术与精密的刮刀压力控制系统,能够实现感光胶在硅片表面的微米级均匀涂布,边缘效应得到了有效控制。CCD视觉系统能够自动识别晶圆边缘与Mark点,实现亚像素级的精准对位。欧可达的Wafer厚膜CCD丝印机不仅在性能指标上对标国际一流水平,更在性价比与服务响应速度上占据了显著优势,为国内半导体封测及制造企业提供了安全、可靠的国产替代方案,为半导体产业链的自主可控贡献了重要力量。


客服1